Zirconium Oxide ZrO₂ | Hafnium Oxide HfO₂ 99.9% Featured Image

Zikonyòm oksid ZrO₂ |Hafnium oksid HfO₂ 99.9%

Deskripsyon

Zikonyòm oksid ZrO₂, oswa Zirkonyòm diyoksid, pratikman ensolubl nan dlo, ak yon ti kras idrosolubl nan HCl ak HNO₃, pwen k ap fonn 2700 °C, dansite 5.85g / cm³, se kristal san odè ak gwo pwen k ap fonn, segondè rezistivite, segondè endèks refraktif ak pwopriyete ki ba ekspansyon tèmik koyefisyan, ki se materyèl ki enpòtan ki reziste tanperati ki wo, materyèl izolan seramik, krèm pwotèj kont solèy seramik ak matyè premyè pou gems atifisyèl.ZrO₂se machandiz jeneral ki ta dwe kenbe nan fre, sèk ak byen vantile kote, kenbe veso a byen fèmen epi lwen alkali fò.Zikonyòm oksid ZrO₂se souvan itilize pou fè metal zirkonyòm ak konpoze zirkonyòm, seramik segondè frekans, materyèl abrazif, pigman seramik, materyèl refractory ak vè optik.

Livrezon

Zikonyòm oksid oswa Zikonyòm diyoksid ZrO₂ak pite nan ZrO₂+HfO₂≥ 99.9% ak oksid Hafnium HfO₂ak pite nan HfO₂+ZrO₂≥99.9% nan Western Minmetals (SC) Corporation ka delivre nan gwosè 60-150mesh poud, 25kg nan sache plastik ak tanbou katon deyò, oswa kòm spesifikasyon Customized.

Ankèt kounye a

Detay yo

Tags

Espesifikasyon teknik

ZrO₂& HfO₂

Zikonyòm oksid oswa Zikonyòm diyoksid ZrO₂ ak pite nan ZrO₂+HfO₂≥ 99.9% ak oksid Hafnium HfO₂ak pite nan HfO₂+ZrO₂≥99.9% nan Western Minmetals (SC) Corporation ka delivre nan gwosè 60-150mesh poud, 25kg nan sache plastik ak tanbou katon deyò, oswa kòm spesifikasyon Customized.

Atik	HfO₂	ZrO₂
Aparans	Poud blan	Poud blan
Pwa molekilè	210.49	123.22
Dansite	9.68 g/cm³	5.85 g/cm³
Pwen k ap fonn	2758 °C	2700 °C
Nimewo CAS	12055-23-1	1314-23-4

Non.	Atik			Espesifikasyon estanda
1	Pite			Enpurte (PCT Max chak)	Gwosè
2	ZrO2	ZrO₂+HfO₂≥	99.9%	Si 0.01, Fe 0.001, Ti/Na 0.002, U/Th 0.005	60-150mesh
3	HfO2	HfO₂+ZrO₂≥	99.9%	Fe/Si 0.002, Mg/Pb/Mo 0.001, Ca/Al/Ni 0.003, Ti 0.007, Cr 0.005	100 may
4	Anbalaj			25kgs nan sache plastik ak tanbou katon deyò

Hafnium oksid HfO₂, oswa Hafnium diyoksid, yon konpoze de hafnium, HfO₂+ZrO₂≥99.9%, pwen k ap fonn 2758 ° C, dansite 9.68 g / cm³, se ensolubl nan dlo, HCl ak HNO₃, men soluble nan H₂SO₄ak HF.oksid Hafnium HfO₂se yon materyèl seramik ki gen espas lajè ak segondè konstan dyelèktrik.Hafnium oksid HfO₂se plis chans pou ranplase pòtay izolasyon silica nan metal ksid semi-conducteurs jaden efè tib yo rezoud pwoblèm nan limit gwosè nan devlopman nan estrikti nan tradisyonèl SiO₂ / Si nan MOSFET, kidonk li se yon materyèl avanse yo itilize nan jaden mikwo-elektwonik.Li se tou lajman itilize pou fè metal hafnium, konpoze hafnium, materyèl refractory, materyèl kouch anti-radyaktif, ak katalis.